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主動(dòng)減震臺(tái)從環(huán)境適配到性能調(diào)試的標(biāo)準(zhǔn)化操作
2025-06-25

主動(dòng)減震臺(tái)作為精密儀器(如掃描電子顯微鏡、原子力顯微鏡)的核心支撐設(shè)備,通過(guò)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)與動(dòng)態(tài)補(bǔ)償技術(shù),可有效隔離地面振動(dòng)(頻率范圍0.5-200Hz),將振動(dòng)干擾降低至微米級(jí)甚至納米級(jí)。其安裝質(zhì)量直接影響減震效果與儀器穩(wěn)定性,以下為分步安裝指...

  • 2023-01-11

    一、用途光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī);有用于封裝的光刻機(jī);還有用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。二、工作原理在加工芯片的過(guò)程中,光刻機(jī)通過(guò)一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過(guò)畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經(jīng)過(guò)一次光刻的芯片可以...

  • 2023-01-10

    現(xiàn)在光刻機(jī)與我們的生活息息相關(guān),我們用的手機(jī),電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品,里面的芯片制作離不開(kāi)光刻機(jī)。如今的世界是一個(gè)信息社會(huì),各種各樣的信息流在世界流動(dòng)。而光刻機(jī)的技術(shù)是保證制造承載信息的載體。在社會(huì)上擁有不可替代的作用。光刻機(jī)的技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域:平版印刷術(shù)用于在用戶不希望影響其整個(gè)樣品的工藝步驟(主要是沉積或蝕刻)之前對(duì)樣品進(jìn)行構(gòu)圖。在蝕刻之前,使用光刻技術(shù)來(lái)形成抗蝕劑保護(hù)層,該保護(hù)層僅將材料保留在存在抗蝕劑的位置(負(fù)圖案)。在使用沉積光刻進(jìn)行剝離之前,在沉積之后剝離抗蝕劑,僅...

  • 2023-01-10

    近半個(gè)世紀(jì)以來(lái),硅一直是世界科技繁榮的焦點(diǎn),芯片制造商幾乎都在壓榨它的性能。傳統(tǒng)上用于制造芯片的技術(shù)在2005年左右達(dá)到極限,芯片制造商不得不尋求其他技術(shù),將更多的晶體管塞到硅上,從而制造出更強(qiáng)大的芯片。光刻機(jī)必須把工程師繪制的電路板精確無(wú)誤地投到硅晶圓上,不允許有絲毫誤差,可見(jiàn)難度之高!將晶體管封裝到芯片上的傳統(tǒng)工藝被稱為“深紫外光刻”(DUV),這是一種類似攝影的技術(shù),通過(guò)透鏡聚焦光線,在硅晶片上刻出電路圖案。受到物理定律的影響,這種技術(shù)可能很快就會(huì)出現(xiàn)問(wèn)題。利用極紫外光...

  • 2023-01-10

    光刻技術(shù)與我們的生活息息相關(guān),我們用的手機(jī)、電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品,里面的芯片制作離不開(kāi)光刻技術(shù)。如今的世界是一個(gè)信息社會(huì),而光刻技術(shù)是制造承載信息的載體的關(guān)鍵技術(shù),具有不可替代的作用。一、光刻技術(shù)的原理光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來(lái)。利用光刻機(jī)上紫外光源發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上的圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用,類似照相機(jī)照相。照相機(jī)拍攝的照片是印在底片上,而...

  • 2023-01-08

    光刻機(jī)應(yīng)用的光刻技術(shù)是將二維圖案轉(zhuǎn)印到平坦基板上的方法??梢酝ㄟ^(guò)以下兩種基本方法之一實(shí)現(xiàn)圖案化:直接寫入圖案,或通過(guò)掩模版/印章轉(zhuǎn)移圖案。限定的圖案可以幫助限定襯底上的特征(例如蝕刻),或者可以由沉積的圖案形成特征。通過(guò)計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(CAD)定義圖案模式。多數(shù)情況下,這些特征是使用抗蝕劑形成的,可以使用光(使用光致抗蝕劑),電子束(使用電子束抗蝕劑)或通過(guò)物理沖壓(不需要抗蝕劑,也叫納米壓?。﹣?lái)定義圖案特征。圖案的特征可以被轉(zhuǎn)移到另一個(gè)層蝕刻,電鍍或剝離。光刻機(jī)的用料:1、...

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